Quarzo Wafer sustrato ukaxa 1.1.
Sustratos de wafer de cuarzo ukaxa wafers ukanakawa nayraqata lurata cuarzo de alta pureza (SIO2), wali apnaqata semiconductores, optoelectrónicas, sistemas microelectromecánicos (MEMs), dispositivos ópticos, ukhamaraki yaqha campos ukanaka. amparampi lurata mä detallada introducción a la substrates de wafer de cuarzo .
Qillqawi
Material propiedad ukaxa 1.1.
(1) Altu q’uma : típicamente lurata cuarzo sintético (e.g., sílice fusionado), wali jach’a q’uma ( jach’a jan ukaxa 99{{4}99%) ukhamaraki jisk’a impurezas ukanakampi jani dispositivo desempeño ukar jan walt’ayañataki.
(2) Estabilidad térmica : jisk’a coeficiente de expansión térmica (≈0.55×10⁻/ grado ) ukhamaraki resistencia alta temperatura (punto lluvioso ~1600 grado ), ukaxa wali askiwa procesos de alta temperatura ukataki.
(3) Rendimiento óptico : Jach’a transmisión rango (UV a IR), transmitencia excepcional UV ukampi, fotomáscaras, lentes, etc. ukanakatakix wali askiwa.
(4) Inertidad química : Resistencia a ácidos y álcalis (janiwa ácido hidrofluórico), ukaxa procesos de grabado húmedo. ukanakatakixa wali askiwa.
(5) Electrical Insulation : High resistivity (>101⁶ Ω·cm), sustratos aislantes jan ukax dispositivos de alta frecuencia. ukanakax wali askiwa.
Aplicaciones ukax 1.1.
Semiconductor ukaxa 1.1.
Fotomask ukaxa sustratos ukanakawa.
EUV Litografía Componentes ukax 1.1.
Wafer Processing ukaxa 1.1.
Fotonica ukat optoelectrónica ukanakaw utji.
Sustratos de guía de ondas ópticas ukaxa 1.1.
Láser diodo ukax mä montaje ukhamawa.
Computación cuántica ukaxa 1.1.
Aplicaciones especiales ukanaka .
MEMS Resonador ukax mä base ukhamawa.
Telescopio Espacial ukax Óptica satawa.
Sistemas Láser de Alta Energía ukaxa 1.1.
Fabricación ukaxa 1.1.
1 Síntesis de materia prima : Deposición de vapor (E.G., SCILL₄ oxidación) jan ukaxa purificación de cuarzo natural. ukanakampi lurata.
2 chulluraña ukhamaraki luraña : Alta temperatura chulluña ukxaruxa lingotes ukanakaru thayt’ayaña jan ukaxa directo dibujaña barras ukanakaru.
3 Cutting : Jisk’a wafers ukarux sierras de alambre de diamante jan ukax láser cutting. ukamp ch’allt’ata.
4 Grinding ukat Pulido : Pulido Mecánico Químico (CMP) ukax nanómetro-nivel suavidad ukaruw puri.
5 Q’umachaña ukhamaraki uñakipaña : Partículas ukatxa metales contaminantes ukanaka apsuña, ukxaruxa defecto ukhamaraki parámetros ukanaka yant’aña.
Utjirinaka
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Propiedades físicas ukaxa 1.1. |
Ukax wali askiwa. |
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Q’umañapa . |
＞99.99% |
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Qhulu |
2.2g/cm ukhamawa.3 |
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Transparencia ukaxa 1.1. |
＞90% |
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Mohs ukax wali ch’amawa. |
5.5--6.5 |
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Punto de deformación ukaxa 1.1. |
1280 grados ukhaw . |
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Punto de suave . |
1750 maranakanwa . |
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Punto de recocido ukaxa 1.1. |
1250 grados ukhaw . |
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Ukax mä específico calor (20 - 350 grado ) . |
670j/kg. ukat juk’ampinaka. |
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Conductividad térmica (20 grado ) ukaxa 1.1. |
1.4W/m. kraru |
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Conductividad de calor (W/m.K,1000 grado ) ukaxa mä juk’a pachanakwa lurasi. |
1.0-1.2 |
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Índice de refracción ukax 1.1. |
1.4585 |
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Coeficiente de expansión térmica ukaxa 1.1. |
5.510 -7cm/cm. ukax 1.1. |
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junt’u - irnaqaña temperatura . |
1750 ~ 2050 ukha qullqiwa. |
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Juk’a pacha - Servicio de Servicio |
1450 grados ukhaw . |
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Jaya - término servicio ukaxa temperatura . |
1100 grados ukhaw . |
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Propiedades químicas ukanaka . |
Ukax wali askiwa. |
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Ácido ukar saykatañataki . |
ch’amani ácido(janiwa Hf),Alcalino ch’amani, solución orgánica . |
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Jach’a temperaturas corrosión resistencia . |
Wusa |
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Metal impureza ukax 1.1. |
(5 ppm ukaxa 1.1. |
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Propiedades eléctricas ukanaka . |
Ukax wali askiwa. |
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Resistividad ukax 1.1. |
7107Ω.cm ukax mä juk’a pachanakanwa. |
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Aislamiento ch’amapa . |
250 ~400kv/cm ukhamawa. |
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Constante dieléctrica ukaxa 1.1. |
3.7~3.9 |
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Coeficiente de absorción dieléctrica ukaxa 1.1. |
＜410-4 |
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Coeficiente de pérdida dieléctrica ukaxa 1.1. |
＜110-4 |
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Propiedades mecánicas ukanaka . |
Ukax wali askiwa. |
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Compresivo ch’amapa . |
1100Mpa ukat juk’ampinaka. |
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Doblar ch’amapa . |
67Mpa ukat juk’ampinaka. |
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tracción ch’amapa . |
48Mpa ukat juk’ampinaka. |
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Poisson ukax mä ratio ukhamawa. |
0.14~0.17 |
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Young chachan modulopa . |
72000Mpa ukax mä juk’a pachanakanwa. |
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Módulo de Cizallamiento ukaxa 1.1. |
31000Mpa ukax 1000000000000000 ukharuw puri. |
Kunatsa jiwasajj ajllisipjjta:
Customizaciona: 1.1.
Uka yänakaxa kunanakatï wakiski ukarjamaw lurañama .
24 Servicio en línea:
Tiempompix amuytʼäwinakam sum amuytʼayañamawa .
Competitivo Precio: 1.1.
Fábrica ukan chanipa ukampis jach’a qullqi .
Global Shipping: ukax mä jach’a uñacht’äwiwa.
Punku punku apaña .
FAQ ukax .
Q1: ¿Kuna jach’a sustratos de wafer de cuarzo ukaxa utji?
A: Producción estándar 300mm diámetro ukjakama, 450mm prototipos ukampi I+D. ukataki.
Q2: ¿Perfiles de grueso personalizados ukanakax churasispati?
A: Jïsa, jiwasajj akham luraraksnawa:
Wedged Wafers (Applicaciones láser ukataki) .
Diseños cónicos de precisión ukax 1.1.
Mesa-estructurado ukaxa 1.1.
Q3: ¿Kuna protocolo de limpieza ukas utji?
A: RCA estándar q’uma lurawi:
1. Remoción Orgánica (h3 ukhamañapataki: H2O2)
2. iónico q’umachaña (HCL: H2O2)
3. HF-Qhipa hidrofílico ukata .
Ukax mä juk’a pachanakanwa.: Sustrato de Wafer de Cuarzo, China Quartz Wafer sustrato lurayirinaka, aljasirinaka, fabrica
Jiskt’awinaka apayanipxam .
Inas jumajj gustjjsta .
